开展高结晶度硬炭材料缺陷工程系统研究，重点突破：（1）建立化学刻蚀-气相沉积协同调控技术，实现微孔（0.5-2nm）、边缘缺陷（ID/IG=1.2-1.8）、sp³杂化碳（15-30%）的三维缺陷精准构筑；（2）开发原位拉曼-XRD联用表征平台，实时监测钠离子（0.1-1.2V电压区间）在缺陷位点的吸附/插层动态过程；（3）构建缺陷浓度（0.5×10¹²~2.3×10¹² cm⁻²）与电化学性能（≥300mAh/g比容量，≥90%循环保持率）的定量构效关系模型；（4）验证缺陷缓冲层对SEI膜稳定性的提升效果（首次库伦效率≥85%）。